溅射工艺因素对Ni-Fe膜性能的影响

【摘要】 <正> 一、前言磁泡常规器件的许多功能是通过Ni-Fe合金薄膜图案完成的。因此,制备性能合乎器件要求的Ni-Fe膜是器件工艺重要的一环。磁泡器件对Ni-Fe膜的要求是:膜厚适当、矫顽力Hc低和磁阻系数η大。制备Ni-Fe膜曾采用电子束蒸发法,现大多改用高频溅射。和蒸发法相比,高频溅射有不少优点:(1)沉积的薄膜成份与靶的成份一致,这使得膜的成份和矫顽力易于控制;(2)沉积速率和膜厚容易调节;(3)无入射角影响;(4)薄膜与衬底结合牢固,使器件有较高的成品率。更多还原