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LPE-GaAs表面形成弯月线原因的探讨

A Study of Meniscus Lines on the Surface of LPE-GaAs

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【作者】 周伯骏吴让元

【Author】 Zhou Bojun/Institute of Semiconductors,Academia Sinica Wu Rangyuan/Institute of Semiconductors,Academia Sinica

【机构】 中国科学院半导体研究所中国科学院半导体研究所

【摘要】 本义介绍了在LPE-GaAs表面出现的弯月线受片子脱离生长液的速度、方向、温度、气氛中的砷分压以及衬底和液槽框底之间的间隙的影响.根据这些现象,提出了形成弯月线的原因——“半周线瞬时局部回溶”的设想.用它能解释有关的实验现象.

【Abstract】 The meniscus lines on LPE-GaAs surface are affected by the speed,temperature and direction of the wafer leaving the growth liquid,by the As partial pressure of the gasflow and by the gap between the surface of the epitaxial layer and the frame bottomof the liquid bath.Based on these phenomena,the concept of"semi-circumferential lineinstant local meltingback" is postulated,which can interpret the cause of forming meni-scus lines.

【关键词】 LPE-GaAs回溶生长液外延层晶向偏离交线弯曲方向液层凹线高阻
  • 【文献出处】 半导体学报 ,Chinese Journal of Semiconductors , 编辑部邮箱 ,1983年04期
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