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用硅烷和乙烯辉光放电法制备的a-SixC1-x:H薄膜及光电性能的研究

Electrical and Optical Properties of a-SixCl1-x:H Film Prepared by GD SiH4 and C2H4

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【作者】 陈光华； 张仿清； 杜宁； 徐希翔； 黄士生； 刘智；

【Author】 Chen Guanghua/Department of Physics, Lanzhou UniversityZhang Fangqing/Department of Physics, Lanzhou UniversityDu Ning/Department of Physics, Lanzhou UniversityXu Xixiang/Department of Physics, Lanzhou UniversityHuang Shisheng/Department of Physics, Lanzhou UniversityLiu Zhi/Test Centre of Gansu

【机构】 兰州大学物理系； 甘肃测试中心；

【摘要】 本文主要介绍应用辉光放电法制备的,光电性能优良的 a-S1xC1 x: H 薄膜的最佳工艺条件、红外吸收光谱、光学带隙Eopt同x的关系、ESCA和ESR的测量结果,井对这些实验结果进行了初步讨论.

【Abstract】 Optimal technology conditions,infrared absorption （IR） spectra,variation ofoptical gap (Eopt) with x,measurement results of ESCA and ESR of a-SixC1-x:Hfilms prepared by glow-discharge decomposition of silane-ethene mixture have beenstudied.Discussions about these experimental results have been made preliminarilyin this paper.

【关键词】 辉光放电； a-Si_xC； 光学带隙； 束缚能； 衬底温度； 工艺条件； ESCA； 溅射法； 掺硼； 电池效率；
  • 【文献出处】 半导体学报 ,Chinese Journal of Semiconductors , 编辑部邮箱 ,1983年02期
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