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离子注入片的激光背面退火
【摘要】 本文给出了离子注入片背面激光照射退火的实验结果。用CWCO2激光器和脉冲钕玻璃激光器从背面照射离子注入片进行退火,不仅可以消除注入损伤,使注入杂质电激活,还可以得到注入图形不发生变化的退火效果。激光背面照射退火可在反刻铝后进行,就能避免激光退火后因再经高温热处理而引起的杂质析出;还可以省掉合金工序。背面照射产生的辐射损伤,也有助于萃取正面的微缺陷。
- 【文献出处】 半导体技术 ,Semiconductor Technology , 编辑部邮箱 ,1983年05期
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