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反应性磁控溅射淀积AlN薄膜

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【作者】 E.V.Gerova； 罗丹；

【机构】 保加利亚索非亚机械和电机工程研究所；

【摘要】 AlN薄膜是采用直流平面磁控系统在氮气氛中用反应性溅射铝淀积在Si片上而成。本文研究了淀积后退火处理对绝缘体和AlN-Si界面特性的影响。

【关键词】 磁控溅射； AlN； 淀积； 界面特性； 氮气氛； 基片温度； 滞后回线； 热电材料； 金属化； 平带电压；
  • 【文献出处】 压电与声光 ,Piezoelectrics & Acoustooptics , 编辑部邮箱 ,1982年03期
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