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硅光电子开关
Opto-electronic silicon switches
【摘要】 <正> 我们用Nd:YAG锁模激光辐照硅,实现了光电子开关的“开”和“关”。开关结构见图1。硅薄片(~7000欧姆·厘米)上光刻微带,具体尺寸是:间隙d=0.34毫米,厚度h=0.43毫米,微带宽度W=0.34毫米。W和h尺寸的选取是使微带与传输电缆为50欧姆阻抗匹配。实验装置见图2。当开关一端加90伏直流偏压时,用0.53微米单脉冲照射,引起硅表面导电,通过传输线,在输出端测得电信号如图3,即完成开关的“开”。以后,用与0.53微米有一定光路延迟的1.06微米光随后照射。因为硅对1.06微米光吸收深,引起导电穿透硅片,形成电信号短
【Abstract】 High-resistivity sicon switching is irradiated by picosecond optical pulses and "on" and "off" of opto-elecotronic switch is thus achieved.
- 【文献出处】 激光 , 编辑部邮箱 ,1982年04期
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