【摘要】 本文介绍用低压化学汽相淀积（LPCVD）技术生长的氮化硅膜的组份及其抗氧化能力的测定.我们研究了SiCl₄-NH₃体系淀积的氮化硅膜.采用俄歇电子能谱仪（AES）和二次离子质谱仪（SIMS）测定膜的组份比和膜中的氧含量,特别是用（AES）法详细分析了氮化硅膜的抗氧化能力.更多还原

【Abstract】 The composition and oxidation resistance of silicon nitride films prepared by lowpressure chemical vapor deposition technique （LPCVD） are determined.The Si₃N₄films deposited in the SiCl₄-NH₃ system are studied.The composition ratio and oxygencontent in the films are measured by Auger Electron Spectroscopy （AES） and Secon-dary Ion Mass-Spectroscopy （SIMS）.The oxidation resistance of the Si₃N₄ films isespecially analyzed by AES in detail.更多还原