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电热原子化一原子吸收光谱分析在半导体材料中的应用

APPLICATION OF ELECTROTHERMAL ATOMISATIONATOMIC ABSORPTION SPECTROMETRY FOR ANALYZING SEMICONDUCTOR MATERIALS

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【作者】 黄慧明

【Author】 Huang Huiming(Shanghai Institute of Metallurgy, Chinese Academy of Sciences)

【机构】 中国科学院上海冶金研究所

【摘要】 评述了本法根据剥层化学腐蚀在测定痕量杂质剖面浓度分布中的应用,薄层溅射分析技术及半导体体材料内痕量元素的直接测定和分离技术。

【Abstract】 The electrothermal atomisation that has been used to obtaining the distribution profiles of trace based on layer-by-layer chemical etching, thin film analytical technique based on sputtering and direct measurement and separation technique of trace in bulk semiconductors are reviewed.

  • 【文献出处】 稀有金属 ,Chinese Journal of Rare Metals , 编辑部邮箱 ,1981年05期
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