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远紫外曝光

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【作者】 顾柏春； 邓弼兴； 张世华；

【机构】 中国科学院半导体研究所； 中国科学院半导体研究所；

【摘要】 本文介绍了国内条件下进行远紫外曝光技术中遇到的问题。研究了市售氙-汞灯的光谱特性,提出选择一个远紫外光源的标准。另外,实验结果证实,红外线辐照所引起的温升效果对分辨率线条的影响并不明显。本文还介绍了,采用市售氙-汞灯曝光系统对锡化三号胶进行曝光情况。

【关键词】 紫外光源； 接近式光刻机； 光刻胶； 光谱特性； 掩模； 投影光刻机； 波长范围； 线宽； 石英玻璃； 紫外光刻机；
  • 【文献出处】 微电子学与计算机 ,Microelectronics & Computer , 编辑部邮箱 ,1981年04期
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