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溅射非晶态硅薄膜光学特性
【摘要】 <正> 作者用自己改装的椭圆偏振光谱仪在可见光范围内研究了射频溅射非晶态硅薄膜的光学性质;提出能同时确定薄膜折射率实数部分n和消光系数K的实验方法;对不同生长条件的薄膜进行测量,获得n与K随λ变化的资料.
- 【文献出处】 贵金属 ,Precious Metals , 编辑部邮箱 ,1981年04期
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【摘要】 <正> 作者用自己改装的椭圆偏振光谱仪在可见光范围内研究了射频溅射非晶态硅薄膜的光学性质;提出能同时确定薄膜折射率实数部分n和消光系数K的实验方法;对不同生长条件的薄膜进行测量,获得n与K随λ变化的资料.