二氧化硅无纺布衬垫抛光

【摘要】 <正> 半导体硅片的抛光是半导体器件生产中的一道重要工序.二氧化硅无纺布衬垫抛光是替代铬离子长毛绒抛光的有效途径,其优点是:抛光片表面损伤小、平整度好,消除了六价铬对人体的危害.国外早在六十年代就开始采用二氧化硅抛光,在这方面积累了大量经验.而国内则是在七十年代后期才开始这方面工作,因此经验较缺乏.但是二氧化硅抛光的优越性已在器件生产中充分体现出来了.更多还原