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砷化镓中深能级陷阱的测量

MEASUREMENT OF DEEP LEVEL TRAPS IN GaAs

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【作者】 周炳林汪乐邵永富陈启屿

【Author】 ZHOU BING-LIN WANG LEr SHAO YONG-FU CHEN QI-YU (Shanghai Institute of Metallurgy, Academia Sinica)

【机构】 中国科学院上海冶金研究所中国科学院上海冶金研究所

【摘要】 对N型砷化镓外延材料进行了瞬态电容和热激电容测量。在液相外延材料中一般检测不到电子陷阱的存在,但是在气相外延材料中,通常都能找到导带下0.82和0.43eV两个电子陷阱,它们的电子俘获截面分别为2.0×10-13和1.5× 10-13cm2

【Abstract】 Measurements on transient capacitance and thermally stimulated capacitance of N-type GaAs epitaxial materials have been carried out. Electron traps could not be detected in LPE materials. However, two electron traps 0.82 and 0.43 eV below the conduction band have been discovered in VPE materials, the electron capture sections are found to be about 2.0 ×10-18 and 1.5 × 10-15cm2 respectively.

  • 【文献出处】 物理学报 ,Acta Physica Sinica , 编辑部邮箱 ,1979年03期
  • 【被引频次】3
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