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基于光学校正的超深亚微米IC版图精确设计技术研究
基于光学校正的超深亚微米IC版图精确设计技术研究
【项目名称】 基于光学校正的超深亚微米IC版图精确设计技术研究
【项目编号】 60176015
【项目目标】
【项目关键词】 超深亚微米 光学邻近校正 精确设计 可制造性设计 光刻仿真 可变阈值光刻胶模型 标准单元 光刻模拟 掩模图 卷积核 离轴照明 光刻 校正 光刻胶 光学 可制造性 仿真工具 下标 光强 掩模 空间域 影像 卷积 基于模型 光强阈值 光学邻近效应校正 高斯滤波器 光学邻近效应 深亚微
【项目承办单位】 浙江大学;
【项目负责人】 严晓浪;
【项目来源】 国家自然科学基金项目
【涉及学科】 无线电电子学
【科研经费】 20万
【所属大项目】
【项目参与研究人员】
    【项目参与研究机构】
    【项目成果摘要】
    【发布单位】 国家自然科学基金委员会
    【发布时间】 2001-01-16
    【申请截止时间】 2001-03-31
    【立项时间】 2002-01
    【完成时间】 2004-12
    【申请条件】
    【联系方式】
    【项目信息来源】 https://isis.nsfc.gov.cn/portal/proj_search.asp
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