| 【项目成果摘要】 |
微等离子体氧化是一种新型表面陶瓷化技术。它可在液相介质中,通过等离子体放电处理铝、钛、镁、钽等金属及合金使其表面形成陶瓷膜。微等离子体氧化过程中,等离子体放电通道内温度高达2000-8000℃(但电解液、基体的温度为室温)、压力可达100MPa以上,这种极限条件下的反应过程可赋予陶瓷膜层用其它技术难以获得的优异耐磨、耐腐蚀、耐热及电绝缘性能。液相中参与反应并形成陶瓷膜的粒子受电场力作用传输到基体附近的空间参与成膜,使陶瓷膜的均匀性好,不受基体尺寸形状的限制。该陶瓷膜是在基体上原位生长,因而与基体结合强度高;并且,制得的陶瓷膜的厚度、组成、结构可以通过调节电参数与改变电解液的成分进行控制,从而实现有目的地构造设计、制备材料。; |