高介电系数硅基钛酸锶钡铁电多层膜的研究
【项目名称】 高介电系数硅基钛酸锶钡铁电多层膜的研究
【项目编号】 10204016
【项目目标】
【项目关键词】 介电性质 铁电多层膜 PST O薄膜 BST 介电系数 钛酸锶钡 多层膜 巨介电常数 硅基 PBT 介电常数 CCT 脉冲激光沉积 钛酸锶铅 薄膜 功函数 择优取向 漏电流 表面电阻率 居里温度 脉冲激光沉积法 氧气氛 顺电相 相对介电常数 SiO2 电容 电极对 溶胶-凝胶法 介电损耗 温度特性 ?
【项目承办单位】 苏州大学;
【项目负责人】 沈明荣;
【项目来源】 国家自然科学基金项目
【涉及学科】 物理学
【科研经费】 29.5万
【所属大项目】
【项目参与研究人员】
    【项目参与研究机构】
    【项目成果摘要】 该研究利用多靶脉冲激光沉积技术在Pt/Ti/SiO_2/Si基片上制备了多晶BaTiO_3/SrTiO_3多层膜,并研究了其介电等性质,创造性地利用氧分压调节多层膜界面层的氧空位浓度,得到明显的介电系数增强。在10kHz下,多层膜介电系数是相应均匀薄膜和同质多层膜的2倍,达1200,损耗小于0.1。基于类似的空间电荷效应机理,该项目在硅基CaCu_3Ti_4O_12薄膜和特殊条件下制备的Ba_0.5Sr_0.5TiO_3均匀薄膜中也得到了非常高的介电系数。;
    【发布单位】 国家自然科学基金委员会
    【发布时间】 2001-12-04
    【申请截止时间】 2002-03-31
    【立项时间】 2003-01
    【完成时间】 2005-12
    【申请条件】
    【联系方式】
    【项目信息来源】 https://isis.nsfc.gov.cn/portal/proj_search.asp
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