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角度限制散射投影电子束光刻的蒙特卡洛模拟
角度限制散射投影电子束光刻的蒙特卡洛模拟
项目基本信息
[信息不全或有误,联系"中国知网"]
【项目名称】
角度限制散射投影电子束光刻的蒙特卡洛模拟
【项目编号】
60306006
【项目目标】
【项目关键词】
电子束光刻 角度限制 蒙特卡洛模拟 邻近效应 衬度 散射 投影 体构 掩膜 电子极化 Monte 入射电子束 入射电子 二次电子 介电函数 电子散射 MonteCarlo方法 散射截面 散射体 Carlo方法 Carlo模拟 电子束 背散射电子像 模拟扫描 复杂试样 光线追踪算法 扫描电子显微学 电子穿
【项目承办单位】
中国科学技术大学;
【项目负责人】
孙霞;
【项目来源】
国家自然科学基金项目
【涉及学科】
无线电电子学
【科研经费】
25万
【所属大项目】
【项目参与研究人员】
【项目参与研究机构】
【项目成果摘要】
【发布单位】
国家自然科学基金委员会
【发布时间】
2002-12-16
【申请截止时间】
2003-03-31
【立项时间】
2004-01
【完成时间】
2006-12
【申请条件】
【联系方式】
【项目信息来源】
https://isis.nsfc.gov.cn/portal/proj_search.asp
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