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100nm分辨率交替式移相掩模设计中的关键技术研究
100nm分辨率交替式移相掩模设计中的关键技术研究
【项目名称】 100nm分辨率交替式移相掩模设计中的关键技术研究
【项目编号】 60376020
【项目目标】
【项目关键词】 移相掩模 散射条 移相掩模技术 193nm光刻 分辨率 移相 关键技术研究 光刻 衍射图形 二元掩模 亚分辨 光瞳 临近效应 光刻模拟 辅助图 离轴照明 标量衍射 分辨率增强 傅里叶光学 空间频率 掩模 商用 孤立 上解 优化方法 校正 工作原理 光学 局限性 节点 平面 基本原理 软件
【项目承办单位】 中国科学院微电子研究所;
【项目负责人】 刘明;
【项目来源】 国家自然科学基金项目
【涉及学科】 无线电电子学
【科研经费】 21万
【所属大项目】
【项目参与研究人员】
    【项目参与研究机构】
    【项目成果摘要】
    【发布单位】 国家自然科学基金委员会
    【发布时间】 2002-12-16
    【申请截止时间】 2003-03-31
    【立项时间】 2004-01
    【完成时间】 2006-12
    【申请条件】
    【联系方式】
    【项目信息来源】 https://isis.nsfc.gov.cn/portal/proj_search.asp
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