新型单晶纳米硅薄膜及其场发射效应研究
【项目名称】 新型单晶纳米硅薄膜及其场发射效应研究
【项目编号】 10374027
【项目目标】
【项目关键词】 场发射效应 纳米硅薄膜 阳极浸蚀 多孔硅 单晶 有效场 场致发射阴极 场致发射 平板显示 表面形态 薄膜 真空微电子器件 发射稳定性 冷电子 高粗糙度 高纵横比 硅集成电路 电子发射体 真空微电子 发射装置 俯视图 叠加场 电化学 原子力显微技术 电子场发射 氢离子注入 纳米结
【项目承办单位】 华东师范大学;
【项目负责人】 朱自强;
【项目来源】 国家自然科学基金项目
【涉及学科】 无线电电子学
【科研经费】 8万
【所属大项目】
【项目参与研究人员】
    【项目参与研究机构】
    【项目成果摘要】 该项目首次用电化学阳极腐蚀方法直接在硅片上制备了粒径形状可控,均匀、厚度可调的大面积单晶纳米硅薄膜,并成功地观察到硅纳米薄膜材料场发射效应。其开启电场与碳纳米管相当,在真空微电子领域具有潜在的应用前景。深入研究了这种纳米结构材料的形成机理、物理特性及其具有优良场发射性能的原因,充分显示其作为场发射阴极材料的优越性能。首次在纳米硅和多孔硅衬底上直接生长出准定向的ZnO纳米结构,并进行了场发射性能测试,获得了较低的开启电场和阈值电场,为ZnO平板显示器件与硅电路单片集成提供了途径。;
    【发布单位】 国家自然科学基金委员会
    【发布时间】 2002-12-16
    【申请截止时间】 2003-03-31
    【立项时间】 2004-01
    【完成时间】 2004-12
    【申请条件】
    【联系方式】
    【项目信息来源】 https://isis.nsfc.gov.cn/portal/proj_search.asp
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