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无掩模SPP波导干涉光刻研究
无掩模SPP波导干涉光刻研究
【项目名称】 无掩模SPP波导干涉光刻研究
【项目编号】 60676024
【项目目标】
【项目关键词】 SPP波 干涉光刻 无掩模 曝光参数 厚胶 表面等离子激元 曝光模型 抗蚀剂 光子器件 曝光 厚胶光刻 纳米 变化趋势分析 趋势面分析 趋势面 加工领域 增强技术 光刻胶 微细加工技术 指导性 厚层 有效实现 过程模拟 成像质量 微纳米 近场 发挥作用 统计分析 变化趋势 厚度
【项目承办单位】 四川大学;
【项目负责人】 杜惊雷;
【项目来源】 国家自然科学基金项目
【涉及学科】 无线电电子学
【科研经费】 30万
【所属大项目】
【项目参与研究人员】
    【项目参与研究机构】
    【项目成果摘要】
    【发布单位】 国家自然科学基金委员会
    【发布时间】 2005-12-30
    【申请截止时间】 2006-03-27
    【立项时间】 2007-01
    【完成时间】 2009-12
    【申请条件】
    【联系方式】
    【项目信息来源】 https://isis.nsfc.gov.cn/portal/proj_search.asp
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