序号 |
题名 |
作者 |
文献来源 |
发表年份 |
被引频次 |
下载频次 |
1 |
原子层淀积高介电常数栅介质研究 |
卢红亮 |
中国博士学位论文全文数据库 |
2006 |
0 |
81 |
2 |
应用于数字视频接收器的低功耗高速流水线模数转换器的研究 |
张剑云 |
中国博士学位论文全文数据库 |
2006 |
1 |
295 |
3 |
铜互连中SiCOF/a-C∶F双层低介电常数薄膜的制备和表征(英文) |
张卫;朱莲;孙清清;卢红亮;丁士进; |
半导体学报 |
2006 |
0 |
59 |
4 |
四角晶相HfO_2(001)表面原子和电子结构研究 |
卢红亮;徐敏;陈玮;任杰;丁士进;张卫; |
物理学报 |
2006 |
0 |
72 |
5 |
集成电路铜互连线脉冲电镀研究 |
曾磊;徐赛生;张立锋;张玮;张卫;汪礼康; |
半导体技术 |
2006 |
4 |
89 |
6 |
原子层淀积Al_2O_3薄膜的热稳定性研究 |
卢红亮;徐敏;丁士进;任杰;张卫; |
无机材料学报 |
2006 |
3 |
86 |
7 |
脉冲时间参数对电沉积铜薄膜性能的影响 |
徐赛生;曾磊;张立锋;张炜;张卫;汪礼康; |
中国集成电路 |
2007 |
1 |
118 |
8 |
原子层淀积制备金属氧化物薄膜研究进展 |
卢红亮,徐敏,张剑云,陈玮,任杰,张卫,王季陶 |
功能材料 |
2005 |
1 |
136 |
9 |
一种适用于开关电容电路的MOS开关栅增压电路 |
张剑云,李建,郭亚炜,沈泊,张卫 |
半导体学报 |
2005 |
1 |
77 |
10 |
集成电路Cu互连线的XRD研究 |
徐赛生;曾磊;张立锋;顾晓清;张卫;汪礼康; |
半导体技术 |
2008 |
0 |
40 |