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序号 题名 作者 文献来源 发表年份 被引频次 下载频次
1 用于亚0.1μmCMOS器件技术中的镍硅化物研究 蒋玉龙 中国优秀博硕士学位论文全文数据库 (博士) 2005 0 70
2 NiSi/Si界面的剖面透射电镜研究(英文) 蒋玉龙;茹国平;屈新萍;李炳宗; 半导体学报 2006 0 47
3 掺Pt对Si(100)上形成的NiSi薄膜应力的影响(英文) 黄巍;茹国平;Detavernier C;Van Meirhaeghe R L;蒋玉龙;屈新萍;李炳宗; 半导体学报 2007 0 28
4 Capacitance-voltage characterization of fully silicided gated MOS capacitor 王保民;茹国平;蒋玉龙;屈新萍;李炳宗;刘冉; 半导体学报 2009 0 15