王澄
【姓名】 王澄
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 H膜,等离子体,折点,子体,结构及性能,暗电导率,辉光放电,电导激活能,萤光,a-Si∶H,导曲线,富氢,费米能级,温度变化,光电导,载流子寿命,光能隙,Anders,界面态,a-Si,
【工作单位】 中国科学院上海硅酸盐研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海硅酸盐研究所;
【所在地域】
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[1]王澄,何克伦,程如光,祁明维.等离子体工艺参数对非晶硅氢合金中氢的键合性质的影响及氢的释放机理[J]红外研究(A辑).1985,(06)
[2]王澄,程如光.等离子体压力对辉光放电沉积的a-Si:H膜的组成、结构及性能的影响[J]无机材料学报.1986,(01)
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