孙兴伟
【姓名】 孙兴伟
【职称】 工程师;
【研究领域】 无机化工;无线电电子学;金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 摩擦,陶瓷,ZrO_2陶瓷,磨损机制,Sialon,工艺因素,氧化锆,Si_3N_4,润滑,摩擦副,陶瓷表面,相组,磨损率,摩擦磨损,氧化锆陶瓷,复相陶瓷,摩擦系数,磨损性,氮化硅基复合材料,碳化硅粒...
【工作单位】 中国科学院上海硅酸盐研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海硅酸盐研究所;
【所在地域】 上海
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[1]廖文俊;曾乐才;陶顺衍;孙兴伟;.陶瓷涂层及喷涂工艺研究[J]上海电气技术.2009,(04)
[2]孙兴伟,刘学建,葛其明,黄莉萍.(TiB_2,TiN)-Si_3N_4基复合材料的性能及显微结构[J]硅酸盐学报.2000,(01)
[3]刘学建,张俊计,孙兴伟,蒲锡鹏,黄莉萍.半导体集成电路用表面钝化膜的研究[J]陶瓷学报.2002,(02)
[4]张俊计,刘学建,孙兴伟,蒲锡鹏,黄莉萍.氮化硅基陶瓷连接技术的研究进展[J]陶瓷学报.2002,(02)
[5]孙兴伟,刘学建,黄莉萍.TiN对Si_3N_4复合材料力学性能及电导率的影响[J]陶瓷学报.1999,(04)
[6]蒋薪，黄莉萍，李虹，孙兴伟，符锡仁.起始原料对氨化铝粉末合成的影响[J]无机材料学报.1994,(03)
[7]李虹，黄莉萍，蒋薪，陈源，孙兴伟.纳米SiC－Si_3N_4复合粉体制备材料的显微结构[J]硅酸盐学报.1995,(05)
[8]黄莉萍，孙兴伟，蒋薪，陈菊芳.添加Y_2O_3对复相Sm－Sialon陶瓷反应过程和材料机械性能的影响[J]无机材料学报.1995,(03)
[9]孙兴伟，李包顺，黄莉萍.氧化锆陶瓷的摩擦磨损性能[J]硅酸盐学报.1996,(02)
[10]孙兴伟，黄莉萍，陈源.未润滑情况下的Si_3N_4、ZrO_2陶瓷的摩擦行为[J]无机材料学报.1996,(01)
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中国重要会议全文数据库    共找到4篇
[1]孙兴伟;郭峰;黄莉萍;.氮化硅陶瓷的低温液相烧结[A].第十三届全国高技术陶瓷学术年会摘要集.2004-10-14
[2]黄莉萍;赵辉;孙兴伟;施卡斌;.工艺因素对复相Sialon陶瓷相组成和显微结构影响[A].94'全国结构陶瓷、功能陶瓷、金属/陶瓷封接学术会议论文集.1994-10-20
[3]孙兴伟;黄莉萍;施卡斌;陈源;.Si_3N_4、ZrO_2陶瓷的摩擦磨损性能[A].94'全国结构陶瓷、功能陶瓷、金属/陶瓷封接学术会议论文集.1994-10-20
[4]李江;邱发贵;孙兴伟;潘裕柏;郭景坤;.真空烧结Nd:YAG透明陶瓷的研究[A].第五届中国功能材料及其应用学术会议论文集Ⅰ.2004-09-01
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