蒲锡鹏
【姓名】 蒲锡鹏
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;无机化工;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 焊料,陶瓷/玻璃,陶瓷连接,CVD,薄膜,SiNx薄膜,氮化硅基陶瓷,表面钝化,有机前驱体,氮化硅薄膜,硅基陶瓷,多孔陶瓷,低压化学气相沉积,LPCVD,工艺,性质,氮化硅,钝化膜,母体材料,氮化,连...
【工作单位】 中国科学院上海硅酸盐研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海硅酸盐研究所;
【所在地域】 上海
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/6 3 3 1 72 1907
中国期刊全文数据库    共找到6篇
[1]刘学建,黄智勇,蒲锡鹏,黄莉萍.SiH_4-NH_3-N_2体系LPCVD氮化硅薄膜的研究[J]电子元件与材料.2003,(07)
[2]葛其明,刘学建,黄智勇,蒲锡鹏,黄莉萍.SiH_4-NH_3-N_2体系LPCVD氮化硅薄膜的生长动力学[J]电子元件与材料.2003,(10)
[3]刘学建,金承钰,黄智勇,蒲锡鹏,黄莉萍.工艺因素对低压化学气相沉积氮化硅薄膜的影响[J]硅酸盐学报.2003,(10)
[4]蒲锡鹏,邱发贵,刘学建,黄莉萍.多孔陶瓷的制备及应用[J]陶瓷科学与艺术.2004,(01)
[5]刘学建,张俊计,孙兴伟,蒲锡鹏,黄莉萍.半导体集成电路用表面钝化膜的研究[J]陶瓷学报.2002,(02)
[6]张俊计,刘学建,孙兴伟,蒲锡鹏,黄莉萍.氮化硅基陶瓷连接技术的研究进展[J]陶瓷学报.2002,(02)
更多