高余铭
【姓名】 高余铭
【职称】
【研究领域】 物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 次级消光,单晶结构,消光,初级消光,最小二乘法修正,x射线,入射线,向异性,衍射强度,R因子,原子坐标,晶体,晶块,结构参数,层晶,结构因子,实际晶体,吸收校正,消光效应,热参数,
【工作单位】 中国科学院上海硅酸盐研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海硅酸盐研究所;
【所在地域】
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[1]高余铭,李德宇.单晶结构分析的次级消光校正[J]物理学报.1982,(04)
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