曾晓阳
【姓名】 曾晓阳
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 逐场调平,投影光刻机,步进模型,套刻,步进模,工件台,轴测,承片台,机器坐标,余弦误差,光电技术,光刻物镜,标轴,透镜组,干涉仪,套刻误差,安装误差,焦面,偏摆,压电陶瓷,
【工作单位】 中国科学院光电技术研究所
【曾工作单位】 中国科学院光电技术研究所;
【所在地域】 成都
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[1]胡淞,姚汉民,张津,李展,曾晓阳,苏伟军.0.35μm投影光刻机的逐场调平技术与套刻步进模型[J]光电工程.1998,(S1)
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