杨春利
【姓名】 杨春利
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 底面对准,样片,掩模,双面光刻,深度曝光,掩模对准,对准精度,MEMS,对准系统,深度光刻,光刻机,对准标记,双面对准曝光,总体性能,工作原理,面深,工件台,光刻设备,标记图,光学系统,套刻精度,光学...
【工作单位】 中国科学院光电技术研究所
【曾工作单位】 中国科学院光电技术研究所;
【所在地域】 四川成都
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[1]马平,唐小萍,杨春利.用于MEMS加工的双面深度光刻机对准系统设计[J]电子工业专用设备.2003,(02)
[2]马平,杨春利,胡松,赵立新.新型URE-2000S型紫外单、双面深度光刻机研制[J]微纳电子技术.2005,(08)
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