陈宝钦
【姓名】 陈宝钦
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 相移掩模,相移器,掩模技术,边缘相,自准直,容度,曝光量,掩模图,透光孔,暗区,反应离子刻蚀,石英基片,斜率,尺寸图,图象对比度,无铬,强度对比度,相移,同尺寸,强度分布,
【工作单位】 中国科学院光电技术研究所
【曾工作单位】 中国科学院光电技术研究所;
【所在地域】
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[1]陈宝钦.边缘相移掩模技术[J]光电工程.1997,(S1)
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