张宗义
【姓名】 张宗义
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 铬版,三氯乙烯,刻蚀速率,氯化碳,刻蚀气体,射频功率,等离子刻蚀,刻蚀时间,工作气体压力,干法刻蚀,氧气浓度,钻蚀,刻蚀过程,体等离子体,邻近效应,气体源,工作气体,胶膜,抗反射,固体样品,
【工作单位】 中国华晶电子集团掩模制造工厂
【曾工作单位】 中国华晶电子集团掩模制造工厂;
【所在地域】 无锡
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[1]赵丽新,过建群,章嵩,张宗义.以四氯化碳代替三氯乙烯进行铬版等刻技术研究[J]微电子技术.1997,(02)
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