王华
【姓名】 王华
【职称】
【研究领域】 物理学;化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 单晶片,氧含量,单晶,工艺条件,拉晶,纵向分布,横向分布,均匀性,籽晶,强制对流,硅材料,固液界面,样片,拉晶速度,晶格间隙位置,吸除作用,纵向电阻率,熔体,热施主,隙态,
【工作单位】 中国华晶电子集团硅材料工厂
【曾工作单位】 中国华晶电子集团硅材料工厂;
【所在地域】 无锡
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[1]王华,仲仁.测量、分析Φ125mm单晶片氧含量及其分布[J]微电子技术.1998,(01)
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