刘锋
【姓名】 刘锋
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 硅单晶,电阻率,均匀性,场强度,n型,晶转,高阻,径向电阻率,热对流,单晶,径向不均匀性,拉晶工艺,磁场拉晶,拉晶,水平磁场,晶转速度,小平面,热场,不均匀性,熔体,
【工作单位】 中国电子科技集团第五十六研究所
【曾工作单位】 中国电子科技集团第五十六研究所;
【所在地域】 天津
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[1]张继荣,殷海丰,佟丽英,刘锋,赵光军.n型高阻硅单晶电阻率均匀性的控制[J]半导体技术.2004,(09)
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