武喜龙
【姓名】 武喜龙
【职称】 高级工程师;
【研究领域】 无线电电子学;武器工业与军事技术;
【研究方向】 光电器件和模块的研制生产
【发表文献关键词】 GaN,退火,整流接触,p型掺杂,欧姆接触,热退火,比接触电阻,氮化镓,缓冲层,薄膜生长,退火温度,退火效应,快速热退火,外延层,原位,流动气氛,蓝宝石,双缓冲层,薄膜材料,薄膜晶体,
【工作单位】 中国电子科技集团第十三研究所
【曾工作单位】 中国电子科技集团第十三研究所;
【所在地域】 石家庄
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[1]武喜龙;.抗辐射光电耦合器试验研究[J]半导体技术.2010,(05)
[2]张会肖,武喜龙,杨红伟,张荣桂.氮化镓研制中的退火技术[J]半导体情报.2001,(03)
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