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刘圣迁
【姓名】
刘圣迁
【职称】
【研究领域】
无线电电子学;电力工业;
【研究方向】
电镀及化学镀的研究
【发表文献关键词】
微电子封装,化学镀镍,补充液,稳定剂,镍盐,化学镀镍工艺,镀液pH值,还原剂,研究及应用,镀层厚度,微细图形,管壳,补加方法,化学镀,pH值,磷含量,科技集团,缓冲剂,镀液成分,镀液的稳定性,
【工作单位】
中国电子科技集团第十三研究所
【曾工作单位】
中国电子科技集团第十三研究所;
【所在地域】
河北石家庄
学术成果产出统计表
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/文献篇数
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学术成果产出明细表
中国期刊全文数据库
共找到2篇
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[2]刘圣迁,刘晓敏,张志谦,刘巧明,夏传义.
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[J]电镀与涂饰.2005,(01)
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中国重要会议全文数据库
共找到1篇
[1]刘圣迁;刘晓敏;张志谦;刘巧明;夏传义;.
微电子封装化学镀镍工艺研究及应用
[A].第七届全国化学镀会议论文集.2004-08-01
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