郝景晨
【姓名】 郝景晨
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 两步抛光,铜,ULSI,多层布线,阻挡层,铜布线,全局平面化,化学作用,机械作用,氧化硅,科技集团,抛光液,王弘,络合剂,中国电子,CMP抛光液,铜布线工艺,铜互连技术,粘附性,石家庄,
【工作单位】 中国电子科技集团第十三研究所
【曾工作单位】 中国电子科技集团第十三研究所;
【所在地域】 石家庄
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[1]王弘英,刘玉岭,郝景晨,魏碧华.ULSI制备中铜布线的两步抛光技术[J]半导体学报.2003,(04)
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