何林
【姓名】 何林
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;电信技术;电力工业;
【研究方向】 物理教学12年
【发表文献关键词】 Ge组分剖面,SiGeHBT,基区,基区渡越时间,模型,优化,锗硅,渡越时间,场效应晶体管,渡越,试验夹具,一阶共振频率,传递系数比,低压低功耗,PMOS器件,大电流密度,AB类输出级,时间模,ULS...
【工作单位】 中国电子科技集团第二十四研究所
【曾工作单位】 中国电子科技集团第二十四研究所;
【所在地域】 重庆
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[3]戴显英,吕懿,张鹤鸣,何林,胡永贵,胡辉勇.SiGe HBT大电流密度下的基区渡越时间模型[J]微电子学.2003,(02)
[4]王向展,于奇,李竞春,宁宁,杨谟华,刘玉奎,谭开洲,何林,严顺炳.一种低压低功耗CMOS ULSI运算放大器单元[J]微电子学.2003,(05)
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[7]杨沛锋,李竞春,于奇,陈勇,谢孟贤,杨谟华,何林,李开成,谭开洲,刘道广,张静,易强,凡则锐.Si/SiGe PMOS器件的模拟优化设计与样品研制(英文)[J]半导体学报.2001,(11)
[8]林大松,张鹤鸣,戴显英,孙建诚,何林.SiGe HBT基区渡越时间模型[J]西安电子科技大学学报.2001,(04)
[9]李竞春,杨沛峰,杨谟华,何林,李开成,谭开州,张静.Si_(1-x)Ge_x/Si应变材料的生长及热稳定性研究[J]微电子学.2002,(02)
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