万关良
【姓名】 万关良
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 硅片清洗,日常维,金属沾污,清洗设备,表面颗粒,H2O2,股份有限公司,清洗机,工艺槽,颗粒数,日常维护,半导体,表面质量,清洗工艺,颗粒,产时,金属含量,监控,RCA清洗,微粗糙度,
【工作单位】 有研半导体股份有限公司
【曾工作单位】 有研半导体股份有限公司;
【所在地域】 北京
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[1]闫志瑞,李俊峰,刘红艳,万关良,李耀东,鲁进军.硅片清洗设备的日常维护[J]电子工业专用设备.2004,(02)
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