杜敏
【姓名】 杜敏
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 衬底电流,短沟道,MOSFET,热载流子效应,数值模拟,载流,稳态,沟道器件,载流子密度,复合率,直流,漏区,碰撞电离率,电场强度,非平衡载流子,短沟道效应,连续性方程,泊松方程,碰撞电离,IEEE,
【工作单位】 西安骊山微电子公司
【曾工作单位】 西安骊山微电子公司;
【所在地域】 临潼
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[1]杜敏,黄敞.二维短沟道MOSFET直流稳态与衬底电流的数值模拟[J]半导体学报.1988,(01)
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