施为德
【姓名】 施为德
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;无机化工;
【研究方向】
【发表文献关键词】 抛光,抛光液,硅单晶,硅溶胶,硅原子,抛光速率,凝胶,颗粒,干凝胶,镜面表面,硅凝胶,抛光方法,机械磨削,二氧化硅,溶胶,吸附效应,抛光剂,化学机械抛光,抛光质量,磨削作用,
【工作单位】 天津化学试剂一厂
【曾工作单位】 天津化学试剂一厂;
【所在地域】
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[1]施为德,陈宝印,刘秀英.硅单晶片的SiO_2抛光[J]半导体技术.1984,(02)
[2]施为德;.硅单晶抛光材料的发展[J]化工新型材料.1985,(06)
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