刘俊奇
【姓名】 刘俊奇
【职称】
【研究领域】 化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 永磁场直拉(PMCZ)炉,氧杂质,热对流,硅中氧,熔体,电阻率,单晶,晶体,固液界面,半导,对流搅拌,磁环,晶转,氧浓度,杂质,均匀性,辐射状,生长速率,生长晶体,体材料,
【工作单位】 天津半导体材料厂
【曾工作单位】 天津半导体材料厂;
【所在地域】
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[1]张维连,孙军生,张恩怀,李嘉席,吴小双,高树良,胡元庆,刘俊奇.用PMCZ法生长的单晶硅中氧和电阻率的均匀性[J]材料研究学报.2001,(04)
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