焦勇
【姓名】 焦勇
【职称】
【研究领域】 一般化学工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 全息,卤化银,记录材料,材料分辨,全息记录,分辨率,光晕,光渗,干涉条纹,防光晕,乳剂颗粒,全息图,漫射,乳化条件,清晰度,乳化时间,乳剂配方,空间频率,颗粒,防光晕层,
【工作单位】 太原世纪全息公司
【曾工作单位】 太原世纪全息公司;
【所在地域】 太原
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[1]焦勇,安文汀,安守忠.关于提高卤化银全息记录材料分辨率的研究[J]影像技术.2002,(01)
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