李伟
【姓名】 李伟
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 非晶氟碳薄膜,等离子体增强化学气相淀积,化学汽相淀积,低介电常数,傅里叶变换红外光谱,非晶碳膜,X射线光电子能谱,碳薄膜,电常数,氟化,低介,ULSI,非晶,碳原子,介电常数,氟碳,谱表,相淀积,成键...
【工作单位】 台湾半导体制造公司
【曾工作单位】 台湾半导体制造公司;
【所在地域】 新竹
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[1]丁士进,王鹏飞,张卫,王季陶,李伟.用于ULSI的低k氟化非晶碳膜研究[J]半导体技术.2001,(05)
[2]丁士进,王鹏飞,张卫,王季陶,李伟.低介电常数非晶氟碳薄膜光谱表征[J]光谱学与光谱分析.2001,(06)
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