K.Wasa
【姓名】 K.Wasa
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 兰宝石,单晶薄膜,射频溅射,ZnO薄膜,SAW器件,溅射,次模式,相速度,传播损耗,薄膜电阻,生长速率,基片温度,传播长度,外延生长,瑞利波,SAW滤波器,延迟温度系数,电阻率,瑞利,ZnO膜,
【工作单位】 松下电器公司
【曾工作单位】 松下电器公司;
【所在地域】
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[1]T.Mitsuyu,S.Ono,K.Wasa,余承杰.在兰宝石上射频溅射ZnO单晶薄膜的结构及SAW特性[J]压电与声光.1981,(01)
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