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黄立新
【姓名】
黄立新
【职称】
【研究领域】
无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】
热场,无位错,晶棱,国产炉,硅单晶,线圈,无位错区,FZ硅单晶,结晶,热场分析,毛剌,单晶,消除方法,反射器,回熔,面锥,转肩,大包,晶体表面,成晶,单晶生长,径向温度梯度,线圈形状,原料,晶界,缘部...
【工作单位】
四川省峨眉半导体材料厂
【曾工作单位】
四川省峨眉半导体材料厂;
【所在地域】
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[1]黄立新.
国产炉拉制Φ>76.2mm无位错FZ硅单晶的两种工艺热场分析
[J]半导体技术.1999,(02)
[2]黄立新.
国产炉拉制Φ78~85mm无位错区熔硅单晶中“毛剌”产生的机理及消除方法
[J]半导体技术.1993,(04)
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