蔡凯红
【姓名】 蔡凯红
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 氧化膜,阵列,真空荧光显示屏,高温氧化,氧化增重,Cr2O3,氧化过程,氧化物,湿氢,阳极帽,氧化温度,FeNi,氧化时间,形貌,氧分压,合金,衍射强度,氧化工艺,小颗粒状,钢冶金,
【工作单位】 首都钢铁集团冶金研究院
【曾工作单位】 首都钢铁集团冶金研究院;
【所在地域】 北京
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[1]耿志挺,张荣,马莒生,蔡凯红.真空荧光显示屏阵列材料氧化过程的研究[J]稀有金属材料与工程.2005,(01)
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