张浙军
【姓名】 张浙军
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 超硬涂层,磁控溅谢,对向平面双阴极,双阴极,工艺研究,磁控溅射,涂层,沉积速率,负偏压,反溅,真空室,工件架,硬度,氮分压,工作压强,耐蚀性,抽气系统,靶材,溅射,离子镀,
【工作单位】 沈阳市真空应用研究所
【曾工作单位】 沈阳市真空应用研究所;
【所在地域】 沈阳市
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[1]张浙军,秦晓峰.对向平面双阴极磁控溅射装置及超硬涂层研究[J]真空.1991,(01)
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