朴元河
【姓名】 朴元河
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 HCD法,新膜系,氮碳氧,开发,设备及工艺,氮化钛,转动架,阴极,镀膜室,离子镀,蒸镀,淀积速率,分压强,真空技术,离化率,基体偏压,辅助阳极,装饰膜,往复移动,电子束,绕射性,行星,等离子,反应气体...
【工作单位】 沈阳市真空应用研究所
【曾工作单位】 沈阳市真空应用研究所;
【所在地域】
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[1]朴元河,金永,孟淑惠,李孟春,张哲军,李滨.HCD法镀氮化钛的设备及工艺[J]真空.1983,(05)
[2]朴元河,谢文利.氮碳氧新膜系的研究开发[J]真空.1990,(05)
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