冒慧敏
【姓名】 冒慧敏
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 基区电阻,双极器件,工艺模拟,直流测量,点缺陷模型,物理分析,DC测量法,双极工艺,校正模型,双极型器件,磷扩散,半导体器件,基区,校正,器件参数,软件应用,电流集边效应,模拟值,集成电路工艺,基极电...
【工作单位】 上海先进半导体制造股份有限公司
【曾工作单位】 上海先进半导体制造股份有限公司;
【所在地域】 上海
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[1]朱兆旻,阮刚,冒慧敏,庞海舟.集成电路工艺模拟软件SSUPREM4的应用[J]半导体技术.1999,(06)
[2]冒慧敏.双极型器件基区电阻的测量[J]微电子学.1997,(06)
[3]冒慧敏.双极型器件基区电阻的测量[J]半导体技术.1998,(03)
[4]冒慧敏,张东红.高浓度磷扩散的模拟[J]固体电子学研究与进展.1998,(03)
[5]冒慧敏,任羽中.双极工艺模拟的校正及其应用[J]微电子学.1998,(03)
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