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林健
【姓名】
林健
【职称】
【研究领域】
无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】
平行化器,阶梯覆盖,浸润层,平坦化,阻挡层,铝金属化,IC器件,扫描电镜,接触孔,亚微米,铝淀积,半导体制造,VLSI,淀积带,溅射,复旦大学,填充性能,材料科学,Acad,金属化工艺,
【工作单位】
上海先进半导体制造股份有限公司
【曾工作单位】
上海先进半导体制造股份有限公司;
【所在地域】
上海
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[1]梁京,黄榕旭,郑国祥,林健,庞海舟,宗祥福.
亚微米IC器件中接触孔的填充和铝金属化工艺的技术
[J]半导体学报.2000,(06)
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