黄其煜
【姓名】 黄其煜
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 BCD工艺,双扩散金属氧化物半导体管,模块化,高压器件,高密度,电源管理,显示驱动,击穿电压,工艺技术,导通电阻,高功率,漂移区,工艺兼容性,市场驱动,低功耗,芯片,集成,应用领域,外延层,工艺原理,
【工作单位】 上海先进半导体制造股份有限公司
【曾工作单位】 上海先进半导体制造股份有限公司;
【所在地域】 上海
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[1]陈志勇;黄其煜;龚大卫;.BCD工艺概述[J]半导体技术.2006,(09)
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