王学波
【姓名】 王学波
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 金属净洗剂,清洗效果,活化法,半导体器件,清洗剂,净洗剂,半导体清洗,硅表面,三角波电压扫描,净洗剂6501,活化分析,表面活性剂,原子团,示踪法,杂质原子,双氧水,半导体硅片,辐照,双极集成电路,吸...
【工作单位】 上海无线电七厂
【曾工作单位】 上海无线电七厂;
【所在地域】
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[1]王学波,戴根财,荣廷文,徐至中.金属净洗剂6501及6503在半导体器件工艺中的应用[J]半导体技术.1980,(03)
[2]荣廷(一乂),秦俊法,林森浩,王学波.氘子活化法测定硅表面钠[J]半导体技术.1981,(05)
[3]荣廷文,秦俊法,王学波,李洪田.示踪法优选半导体清洗剂[J]半导体技术.1982,(06)
[4]荣廷文,林森浩,秦俊法,王学波.表面活性剂对硅表面清洗效果的研究[J]半导体技术.1988,(03)
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